不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响

离子束溅射清洁技术经常用于去除暴露在空气中的样品表面的吸附污染，亦可用于对薄膜材料的深度分析。本文使用岛津X射线光电子能谱仪（XPS）仪器配备的多模式气体团簇离子源（GCIS）氩离子枪，针对不同类型材料进行清洁/深度分析，并对比了单氩离子模式刻蚀与团簇模式刻蚀对表面元素化学态的影响。结果表明，团簇氩离子刻蚀对材料的破坏更小，能够最大程度保留样品原始信息。