近年来，MS成像被广泛应用于原研药研究、代谢研究以及其他各种领域。在使用MALDI电离法的MS成像中，除了在众多的基质种类中选择适合目标化合物检测的基质之外，研究所选择基质的涂覆方法也极其重要。喷涂法可有效地从组织中萃取，但存在成分渗出、基质晶体颗粒大、不均匀的问题。另一方面，升华法可实现基质晶体的微小、均匀化，但无法有效地从组织中萃取。因此，开发了升华法与喷涂法相结合的两步升华法（专利：6153139）和使升华的基质再结晶的升华后再结晶法等。在本文中，我们将介绍基质种类和涂覆方法的差异造成的晶体尺寸和形状差异的观察结果，以及证实两步升华法在MS成像中的优势的示例。