ICP-OES测定工业硅中杂质元素的含量

2022年4月14日

本文参考GB/T 14849.4-2014《工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》,采用湿法消解工业硅粉样品,利用岛津电感耦合等离子体发射光谱仪ICPE-9820测定了样品中杂质元素的含量。分析结果表明,各元素的方法检出限为0.004 mg/kg ~ 6 mg/kg;仪器精密度优良,RSD值小于1.30%(n=6);样品加标回收率为96.0%~110%。该方法灵敏度高,精密度优良,适用于工业硅粉中杂质元素含量的测定。
内容类型:
应用报告
产品类型:
等离子体发射光谱仪
语言:
中文
更新时间:
2022年04月14日

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