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应用文章
ARXPS结合MEM软件重构角分辨深度剖析曲线
2021年6月18日
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通过XPS可以了解材料表面10nm厚度的元素化学态信息,而通过ARXPS可以将分析深度进一步降低到1~3nm。但是ARXPS数据的解析是困难的,本文说明了如何通过MEM软件来对ARXPS数据进行重构得到深度剖析曲线。同时通过Minibeam VI团簇离子枪对表面污染进行去除,研究了表面污染对MEM结果的影响。
内容类型:
应用报告
文章编号:
XPS-020_x000D_
产品类型:
X射线光电子能谱仪
语言:
中文
更新时间:
2021年06月18日
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