利用地蒽酚气相沉积法讨论MS成像在工业化产品领域的应用
2021年11月20日
地蒽酚适用于非极性高分子电离,是高分子材料和工业化学产品等方面的MALDI-MS测定中必不可少的一种基质。但是,众所周知,市售的地蒽酚中含有杂质,因此,需要研究这些杂质是否会阻碍分析目标的电离。另外,喷涂法是一种简单的基质涂抹法,缺点是基质晶体粗糙,导致MS成像的空间分辨率降低。另一方面,气相沉积法可以均匀精细地生成基质晶体,并保持较高的空间分辨率。本公司的基质升华仪iMLayer可以控制基质涂抹量和膜厚,因此具有良好的再现性,由于可根据基质设定升华温度,因此,有望减少升华温度不同的杂质混入其中。在本文中,完美将介绍旨在抑制地蒽酚杂质谱峰并提高空间分辨率的研究。
- 内容类型:
- 应用报告
- 产品类型:
- 分子成像产品
- 语言:
- 中文
- 更新时间:
- 2021年11月20日
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